某半导体材料创造的企业因晶圆擦拭环节所产生含氨废渣，供水量200吨/天。废渣中除氟化物外还含有氟化物和微量分析天价属，办理一定的难度大。本县排放口标准规定让氟化物＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 化工废水的成分及来自 晶圆清洁工作污水（最主要的来历）：含氧化还原电位200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工艺流程废水处理方法：含少量铜、镍等天价属，pH值浮动大 CMP抛光废液：含硅粒子及氧化还原电位 外理鑫霖环保过程 应用"化学工业积淀+膜提取+折点氯化"组合起来生产工艺： 预处里 ：污泥脱水CaCl2除氟，把控pH在7.5-8. 超滤膜程序 ：清掉0.01μm超过粒子物 反融于高浓 ：将氟化物浓缩咖啡至1000mg/L超过 折点氯化 ：透彻调节氯添加量，将氟化物有效的转化为离氮气 亚铁离子置换 ：服务保障巨资属符合标准 进而效用 化学需氧量保持稳定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属含磷量高出判断限 水造纸废水处理率达75% 污水有量削减40%