某半导鑫霖环保芯片制造出厂在晶圆外理过程中中，用到硅烷实行硅外加衍生，空气干洗塔生产高密度含硅废渣。废渣存在pH振幅大（2-11）、硅含氧量高的特质，经典外理的方法易显示硅垢网络堵塞，网络响应过慢或许卡死毛病。 废水处理方法的成分及特征 废水处理核心基本成分为： 溶解出来性硅酸盐 ：SiO₂有机废气浓度达1000-1500mg/L 氢被氧化钾/氢被氧化钠 ：清洗塔碱酸清洗液残余的 颗料硅 ：纳米技术级SiO₂氢氧化铁 痕量砷 ：原辅料钙镁离子进入 治理 方法工艺设计 研发采取"有级结合+膜吸附+多效蒸发凝结"工艺设备： 第一中合 ：用CaO调控pH至4-5，提取硅酸钙析出，硅祛除率60%。 二次结合 ：加Na₂CO₃将pH提拔至9，进这一步奠定残余硅，并接用镁剂除砷。 反渗透膜整体 ：0.02μm陶瓷图片膜活性炭过滤微米级硅科粒，通量动态平衡在80LMH。 MVR挥发器 ：高浓高盐废液，凝结出Na₂SO₄副產品，水使用率超90%。 之后效果好 总硅从1500mg/L调至5mg/L以內 砷占比从0.8mg/L减少为0.01mg/L 系统无积灰运动可超过2年 每次再利用浓盐酸钠单晶体约800吨